[发明专利]一种包含三氟甲基的金属有机空穴配合物混合基质膜及应用有效
| 申请号： | 202210478565.5 | 申请日： | 2022-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN114931860B | 公开（公告）日： | 2023-04-28 |
| 发明（设计）人： | 谢亚勃;刘桐欣;张瑞丽 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | B01D67/00 | 分类号： | B01D67/00;B01D69/14;B01D71/06;B01D71/64;B01D71/76;B01D53/22 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 张立改 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
一种包含三氟甲基的金属有机空穴配合物混合基质膜及应用，于材料科学领域与气体分离领域。该混合基质膜包括高分子聚合物，与ZRT制备成膜。其制备方法包括：将ZRT溶解到有机溶剂中，超声至溶解，得到ZRT溶液；然后称取一定量的聚合物加入上述溶液，超声至溶解，得到混合基质膜铸膜液；将混合基质膜铸膜液倒入一定大小的制膜表面皿中，待溶剂挥发，制得ZRT混合基质膜。能够实现气体中CO |
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| 搜索关键词： | 一种 包含 甲基 金属 有机 空穴 配合 混合 基质 应用 | ||
【主权项】：
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