[发明专利]一种适用于物理气相沉积工艺的石英锅等离子熔射方法在审
| 申请号： | 202210394690.8 | 申请日： | 2022-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN114752886A | 公开（公告）日： | 2022-07-15 |
| 发明（设计）人： | 许杰 | 申请（专利权）人： | 合肥升滕半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/04;C23C14/32;C23C14/58;C23G1/24 |
| 代理公司： | 北京众允专利代理有限公司 11803 | 代理人： | 沈小青 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市新站*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种适用于物理气相沉积工艺的石英锅等离子熔射方法，涉及石英锅等离子熔射技术领域，包括以下步骤：S1、遮蔽操作；S2、喷砂处理；S3、第一次检测操作；S4、第一次清洗操作；S5、第一次烘烤操作；S6、熔射操作；S7、第二次检测操作；S8、第二次清洗操作；S9、超声操作；S10、第二次烘烤操作。本发明石英锅用于制造集成电路的物理气相沉积中的pre‑c l ean XT工艺腔体中，物理气相沉积技术其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上，其制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 适用于 物理 沉积 工艺 石英 等离子 方法 | ||
【主权项】：
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