[发明专利]具光阻挡层的微发光二极管显示面板的制作方法在审

专利信息
申请号: 202210373241.5 申请日: 2022-04-11
公开(公告)号: CN116931379A 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 许铭案 申请(专利权)人: 许铭案
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G09F9/33
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 关宇辰
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种具光阻挡层的微发光二极管显示面板的制作方法,包含:对制作好数个微发光二极管的一基板进行光学影像扫描与演算并产生一实体虚拟光罩,该实体虚拟光罩定义每个微发光二极管为一像素区;于该基板上形成一负型光阻层,该负型光阻层的厚度大于每个该微发光二极管的厚度;以该实体虚拟光罩,对该负型光阻层进行一激光直写曝光程序,并移除定义于每个该像素区的该负型光阻层;及固化未被移除的该负型光阻层以形成一黑矩阵结构。本发明运用激光直写曝光(Laser Direct Imaging,LDI)与显影工艺来制作μLED之间的黑矩阵层,借以准确地制作出能填于μLED之间空隙的黑矩阵层,进而解决μLED的工艺中的晶粒歪斜、量率不高等技术问题,进而达到高良率、降低工艺成本的功效。
搜索关键词: 阻挡 发光二极管 显示 面板 制作方法
【主权项】:
暂无信息
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