[发明专利]光响应纳米复合材料、制备方法以及微纳4D打印方法有效
| 申请号： | 202210326785.6 | 申请日： | 2022-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN114736480B | 公开（公告）日： | 2023-09-19 |
| 发明（设计）人： | 熊伟;邓春三;范旭浩;刘耘呈;张泽旭;张铭铎;高辉;邓磊敏 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学;湖北光谷实验室 |
| 主分类号： | C08L33/24 | 分类号： | C08L33/24;C08K9/04;C08K3/04;C08K3/08;B29C64/112;B29C64/268;B29C64/393;B33Y30/00;B33Y50/00 |
| 代理公司： | 武汉华之喻知识产权代理有限公司 42267 | 代理人： | 王世芳;梁鹏 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光响应纳米复合材料、制备方法以及微纳4D打印方法，属于4D打印技术领域，其为有机前驱体、引发剂、交联剂、光敏剂、吸光材料溶剂混合获得的分散液，各组分的质量比依次为：(0.8～1.25):(0.022～0.066):(0.9～2):(0.6～1.2):1，吸光材料溶剂是纳米级别的吸光材料均匀分散在溶剂中形成的，其在吸光材料溶剂中的质量比为0.1％～5％。本发明提供了光响应纳米复合材料的制备方法和采用上述光响应纳米复合材料进行微纳4D打印的方法。本发明材料有效提升了光刺激下微纳智能结构的响应速度和执行速度，并提升了微纳智能结构形变结构的设计自由度，能实现高效率微纳4D打印。 | ||
| 搜索关键词： | 响应 纳米 复合材料 制备 方法 以及 打印 | ||
【主权项】：
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