[发明专利]一种单晶硅片的液体抛光装置在审
| 申请号： | 202210267592.8 | 申请日： | 2022-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN114603464A | 公开（公告）日： | 2022-06-10 |
| 发明（设计）人： | 赵强;黄伟雄 | 申请（专利权）人： | 深圳市海德精密机械有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B41/00;B24B41/06;B24B47/12;B24B55/04;B24B55/06 |
| 代理公司： | 深圳市中科云策知识产权代理有限公司 44862 | 代理人： | 何晓 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙岗区平湖街道禾花社*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明属于单晶硅片加工设备技术领域，且公开了一种单晶硅片的液体抛光装置，包括抛光箱，所述抛光箱的背面固定连接有侧板，所述侧板的顶面固定安装有一号伸缩杆，所述一号伸缩杆的顶面固定安装有顶部板。本发明通过在横板的顶面增设抽吸泵，并在连接杆的内侧面增设二号伸缩杆，使得二号伸缩杆带动吸附板，并利用曲管和控制阀，使得通过调节控制阀实现两组吸附板同时吸气以及便捷切换两组吸附板单独吸气，从而在完成底面抛光后，通过调节控制阀并配合二号伸缩杆实现两组吸附板的滑动调节，从而使得单晶硅片的顶面再次切换后有效进行抛光，实现单晶硅片的彻底抛光，避免重新安装调节，提高实际抛光效率，使用效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 单晶硅 液体 抛光 装置 | ||
【主权项】：
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