[发明专利]一种光控-晶控结合的膜系设计方法在审
| 申请号： | 202210262111.4 | 申请日： | 2022-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN114740559A | 公开（公告）日： | 2022-07-12 |
| 发明（设计）人： | 刘瑞奇;卢成 | 申请（专利权）人： | 成都国泰真空设备有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;C23C14/54;C23C14/08 |
| 代理公司： | 成都其高专利代理事务所(特殊普通合伙) 51244 | 代理人： | 贾波 |
| 地址： | 610000 四川省成都市温江*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光控‑晶控结合的膜系设计方法，为窄带通两边的截止带拓宽提供一种可能性，包括下述步骤：1）通过膜系设计软件设计一个1064的窄带通，必要条件下主膜镀窄带滤光片时需消除掉一侧的次峰，方便副膜消掉另一侧的次峰；2）将步骤1）所得，在同一个膜系的基础上叠加一个短波通膜系，形成主膜膜系；3）将步骤2）所得的主膜膜系，再设计一个长波通膜系作为副膜膜系。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光控 结合 设计 方法 | ||
【主权项】：
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