[发明专利]层积体、电解槽及其制造方法、电极的更新方法、层积体的更新方法以及卷绕体的制造方法在审
| 申请号： | 202210236925.0 | 申请日： | 2018-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN114540853A | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | 船川明恭;角佳典;蜂谷敏德;古池润 | 申请（专利权）人： | 旭化成株式会社 |
| 主分类号： | C25B9/23 | 分类号： | C25B9/23;C25B9/19;C25B11/02;C25B11/03;C25B13/02;C25B13/08 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李洋;庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及层积体、电解槽及其制造方法、电极的更新方法、层积体的更新方法以及卷绕体的制造方法。一种层积体，其具有隔膜和固定于所述隔膜的表面的至少1个区域的电解用电极，所述隔膜的表面上，所述区域的比例超过0％且小于93％。 | ||
| 搜索关键词： | 层积 电解槽 及其 制造 方法 电极 更新 以及 卷绕 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旭化成株式会社，未经旭化成株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210236925.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
