[发明专利]一种侧壁光滑且陡直的薄膜光子芯片制备方法在审
| 申请号： | 202210227112.5 | 申请日： | 2022-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN114815059A | 公开（公告）日： | 2022-07-29 |
| 发明（设计）人： | 王鹏 | 申请（专利权）人： | 嘉兴微智光子科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/13 | 分类号： | G02B6/13;G02B6/136 |
| 代理公司： | 北京清控智云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11919 | 代理人： | 管士涛 |
| 地址： | 314199 浙江省嘉兴市嘉善*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种侧壁光滑且陡直的薄膜光子芯片制备方法，其结合了飞秒激光直写加工方法、化学机械抛光方法与干法刻蚀方法，具有加工效率高以及所制备的光子芯片结构侧壁光滑、陡直的优点，可用于高品质光子集成芯片的高效制备。化学机械抛光方法、干法刻蚀方法均可进行大规模高速加工，也能够显著提升整体加工效率。通过制备双层掩模图案结构，有效利用了化学机械抛光技术加工结构边缘光滑与干法刻蚀技术加工结构侧壁陡直度好的优点，所加工出的光子结构传输损耗低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 侧壁 光滑 陡直 薄膜 光子 芯片 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于嘉兴微智光子科技有限公司，未经嘉兴微智光子科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210227112.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
