[发明专利]一种曝光抗蚀剂改性工艺及液相微纳加工设备在审
| 申请号： | 202210191663.0 | 申请日： | 2022-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN114545745A | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | 王德强;曾德林;方绍熙;黄周昶 | 申请（专利权）人： | 重庆邮电大学;中国科学院重庆绿色智能技术研究院 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26;G03F7/32;G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京汉迪信和知识产权代理事务所(普通合伙) 16085 | 代理人： | 赵景焕 |
| 地址： | 400065 重庆市南*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种曝光抗蚀剂改性工艺及液相微纳加工设备，所述曝光抗蚀剂改性工艺包括制备聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)薄膜，对聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)薄膜的极化通路进行连接，对带有待加工图案的聚甲基丙烯酸甲酯薄膜进行曝光，对加工图案的显影以及定影，将定影之后的带有加工图案的PMMA薄膜，用氮气枪吹出表面的水分，完成PMMA薄膜的改性工作。本发明在对PMMA改性时，使用本发明的改性技术—电压改性，达到或等同了电子束流曝光的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 抗蚀剂 改性 工艺 液相微纳 加工 设备 | ||
【主权项】：
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