[发明专利]一种光圈可调式曝光机及其使用方法在审
| 申请号： | 202210162219.6 | 申请日： | 2022-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN115268221A | 公开（公告）日： | 2022-11-01 |
| 发明（设计）人： | 郑怀志;施维 | 申请（专利权）人： | 广州新锐光掩模科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/32 |
| 代理公司： | 北京清大紫荆知识产权代理有限公司 11718 | 代理人： | 郑纯;黎飞鸿 |
| 地址： | 510555 广东省广州市(*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本申请提供了一种光圈可调式曝光机及其使用方法，属于曝光机技术领域，具体应用于衰减相移光掩模的铬残留去除中，包括：光源；光调节组件，用于使光源发出的光均匀化，设置于光源下侧；光圈组件，位于光调节组件的下侧，光圈组件上设有通光孔，通光孔的大小和位置根据光掩模的铬残留大小和位置进行调节；载台，载台上设置有光掩模，通过通光孔的光对光掩模进行曝光；以及控制系统，控制系统分别与光圈组件和载台通信连接，用于对光圈组件和载台进行控制。通过本申请的处理方案，节省光刻机的时间，降低成本，提高产能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光圈 调式 曝光 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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