[发明专利]一种等离子体刻蚀装置在审
| 申请号： | 202210153343.6 | 申请日： | 2022-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN114551194A | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | 张鹏;张佳诚;凌新;余德平 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | H01J37/04 | 分类号： | H01J37/04;H01J37/18;H01J37/20;H01J37/305;H01J37/32 |
| 代理公司： | 四川力久律师事务所 51221 | 代理人： | 熊晓果 |
| 地址： | 610065 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种等离子体刻蚀加工设备，特别是一种等离子体刻蚀装置，包括相对设置的第一电极和第二电极，第一电极和第二电极之间具有用于放置待加工件的加工区域，还包括驱动装置，第一电极上靠近第二电极的一侧设置有呈阵列布置的尖端，尖端的尖部指向第二电极，驱动装置能够驱动第一电极回转。本申请的一种等离子体刻蚀装置，第一电极成为一种表面带有尖端阵列的电极，使得本申请的等离子体刻蚀装置在刻蚀时不需要对电源电压有太高的要求，或者再同等电源电压的条件下极大的提升了改性粒子的能量密度。使用驱动装置能够驱动第一电极回转，进而带动待加工件可以在一定速度范围内旋转，其配合尖端以实现对待加工件较为均匀的刻蚀效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 刻蚀 装置 | ||
【主权项】：
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