[发明专利]一种化学增幅型负性聚酰亚胺光刻胶及其制备方法与应用在审
| 申请号： | 202210127932.7 | 申请日： | 2022-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN114488690A | 公开（公告）日： | 2022-05-13 |
| 发明（设计）人： | 杨士勇;王立哲;贾斌;曹雪媛;孙朝景 | 申请（专利权）人： | 中国科学院化学研究所 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/038;H01L21/027;H01L23/31 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 刘鑫鑫 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学增幅型负性聚酰亚胺光刻胶及其制备方法与应用。本发明化学增幅型负性聚酰亚胺光刻胶，为下述(1)或(2)：(1)由聚酰亚胺前驱体固体树脂、光产酸剂、光交联剂和有机溶剂组成；(2)由聚酰亚胺前驱体固体树脂、光产酸剂、光交联剂、功能助剂和有机溶剂组成；所述功能助剂为光敏促进剂、助黏剂和抑制剂中的至少一种；所述抑制剂为热聚合抑制剂和/或碱性抑制剂；所述聚酰亚胺前驱体固体树脂由芳香族二酰氯二酯、芳香族二胺和封端剂制成；所述芳香族二酰氯二酯由芳香族二酸二酯和酰氯化试剂制成；所述芳香族二酸二酯由芳香族四酸二酐和低级脂肪醇制成。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 增幅 型负性 聚酰亚胺 光刻 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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