[发明专利]离子注入装置及离子注入方法在审
| 申请号： | 202210117792.5 | 申请日： | 2022-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN114914141A | 公开（公告）日： | 2022-08-16 |
| 发明（设计）人： | 山口干夫;石桥和久;工藤哲也 | 申请（专利权）人： | 住友重机械离子科技株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/304 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 任玉敏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明可加速动作参数的调整。离子注入装置具备：射束生成装置，生成照射到工作件的离子束；控制装置(52)，设定用于控制射束生成装置的动作的多个动作参数；测定装置，测定离子束的至少一种射束特性；存储装置(56)，累积将多个动作参数的设定值集与离子束的至少一种射束特性的测定值建立对应关联的数据集；及分析装置(54)，根据累积于存储装置(56)的多个数据集，生成用于根据多个动作参数中所包含的至少一个特定参数的设定值推算至少一种射束特性的函数。在变更多个动作参数中所包含的至少一个特定参数的设定值时，控制装置(52)对函数输入至少一个特定参数的变更后的设定值来计算出至少一种射束特性的推算值。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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