[发明专利]一种下电极组件、等离子体处理装置及其组装方法在审
申请号: | 202210078043.6 | 申请日: | 2022-01-24 |
公开(公告)号: | CN116525394A | 公开(公告)日: | 2023-08-01 |
发明(设计)人: | 王洪青;杨宽;范光伟;彭锡亮 | 申请(专利权)人: | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人: | 完增荣;张双红 |
地址: | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种下电极组件、等离子体处理装置及其组装方法,该下电极组件包括:静电吸盘,具有位于其中部的第一承载面和环绕其中部的第二承载面,所述第二承载面的高度低于所述第一承载面的高度;边缘环组件,环绕所述静电吸盘的中部设置在所述第二承载面的上方,且与所述静电吸盘的中部之间设有间隙;以及隔离层,环绕所述静电吸盘的中部设置,且位于所述边缘环组件的下表面与所述第二承载面之间;其中,所述隔离层为可塑绝缘材料。本发明能够有效地避免静电吸盘与边缘环组件之间的间隙内产生电弧,进而避免下电极组件的损坏和基片的报废。 | ||
搜索关键词: | 一种 电极 组件 等离子体 处理 装置 及其 组装 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中微半导体设备(上海)股份有限公司,未经中微半导体设备(上海)股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210078043.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:激活码抄写方法、装置、电子设备和存储介质
- 下一篇:关节角度测量装置