[发明专利]一种γ辐射环境下成像设备的图像去噪方法有效
| 申请号： | 202210071229.9 | 申请日： | 2022-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN114500802B | 公开（公告）日： | 2023-05-05 |
| 发明（设计）人： | 方琳琳;邓豪;张华;王海;翟旭强 | 申请（专利权）人： | 西南科技大学 |
| 主分类号： | H04N23/50 | 分类号： | H04N23/50;H04N25/76;H04N23/51;H04N23/54;H04N23/81;G06T5/00;G21F3/00 |
| 代理公司： | 北京正华智诚专利代理事务所(普通合伙) 11870 | 代理人： | 李梦蝶 |
| 地址： | 621010 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种γ辐射环境下成像设备的防辐射装置及图像去噪方法，其装置包括：成像设备、内保护层、中间保护层、外保护层、耐辐照玻璃罩和成像设备安装件；其方法包括以下步骤：S1、通过防辐射装置采集γ辐射环境下的图像序列；S2、遍历图像序列上的每个像素点，得到噪声标记图；S3、对噪声标记图中噪声点进行恢复，得到去噪图像；本发明解决了γ辐射场景下，场景图像中存在大量噪声，严重影响视觉质量的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 辐射 环境 成像 设备 图像 方法 | ||
【主权项】：
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