[发明专利]一种γ辐射环境下成像设备的图像去噪方法有效
申请号: | 202210071229.9 | 申请日: | 2022-01-21 |
公开(公告)号: | CN114500802B | 公开(公告)日: | 2023-05-05 |
发明(设计)人: | 方琳琳;邓豪;张华;王海;翟旭强 | 申请(专利权)人: | 西南科技大学 |
主分类号: | H04N23/50 | 分类号: | H04N23/50;H04N25/76;H04N23/51;H04N23/54;H04N23/81;G06T5/00;G21F3/00 |
代理公司: | 北京正华智诚专利代理事务所(普通合伙) 11870 | 代理人: | 李梦蝶 |
地址: | 621010 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 辐射 环境 成像 设备 图像 方法 | ||
1.一种γ辐射环境下图像去噪方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、通过防辐射装置采集γ辐射环境下的图像序列;
所述防辐射装置包括:成像设备(1)、内保护层(2)、中间保护层(3)、外保护层(4)、耐辐照玻璃罩(5)和成像设备安装件(6);
所述成像设备(1)与成像设备安装件(6)固定连接;所述内保护层(2)与成像设备安装件(6)固定连接;所述中间保护层(3)固定在内保护层(2)和外保护层(4)间;所述耐辐照玻璃罩(5)与内保护层(2)固定连接;
所述内保护层(2)包括:盖体台面(21)和管状保护层(22);
所述管状保护层(22)一端闭合,一端开口;开口一端的管状保护层(22)的环形开口与盖体台面(21)固定连接,并延伸出部分,形成玻璃罩台面(23);
在管状保护层(22)开口一端开凿出多条凹形条槽(24);
所述成像设备安装件(6)的边缘设有多个凸起(61),一个凸起(61)与一条凹形条槽(24)匹配;
所述耐辐照玻璃罩(5)嵌入盖体台面(21)中,与玻璃罩台面(23)抵靠;
所述外保护层(4)为管状,其一端封闭,一端开口,其开口一端与盖体台面(21)接触,并与盖体台面(21)固定连接;
所述中间保护层(3)为管状,其一端封闭,一端开口,中间保护层(3)固定在外保护层(4)和内保护层(2)之间;
所述内保护层(2)和外保护层(4)的材料为不锈钢,所述中间保护层(3)的材料为铅;所述耐辐照玻璃罩(5)为含氧化铈的耐辐照玻璃;
所述防辐射装置还包括成像设备连接线(7),所述成像设备连接线(7)包括:两根电源线(71)、四根数据传输线(72)、两根备用线(73)、加强筋(74)、金属包络线(75)、塑封层(76)和凯夫拉纤维层(77);
所述金属包络线(75)包裹两根电源线(71)、四根数据传输线(72)、两根备用线(73)和加强筋(74);所述塑封层(76)套于金属包络线(75)外;所述凯夫拉纤维层(77)套于塑封层(76)外;
所述成像设备(1)包括:CMOS图像传感器、ISP图像信号处理器、存储器和视频编码器;所述CMOS图像传感器表面覆盖耐辐照玻璃罩(5),所述ISP图像信号处理器、存储器和视频编码器表面覆盖防辐射铅层;
S2、遍历图像序列上的每个像素点,得到噪声标记图;
S3、对噪声标记图中噪声点进行恢复,得到去噪图像;
所述步骤S3包括以下分步骤:
S31、取出噪声标记图中噪声像素点对应的时序像素序列;
S32、取时序像素序列中非噪声像素点的像素中值,作为对应噪声像素点的像素值,得到基于时序信息的图像;
S33、取噪声标记图中噪声像素点邻域内的非噪声像素序列,取非噪声像素序列中值作为对应噪声像素点的像素值,得到基于空间信息的图像;
S34、将基于时序信息的图像和基于空间信息的图像进行加权求和,得到去噪图像;
步骤S2中噪声标记图中噪声像素判断的公式为:
其中,N为噪声像素判断结果,当N为1时,像素点为噪声像素点,当N为0时,像素点为正常像素点,μ()为单位阶跃函数,α为比例系数,表征非噪声像素点占整个图像序列的比例,n为图像序列中像素的数量,T为噪声检测阈值,Pi为图像序列中第i个像素值,Pn为待判断像素值。
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