[发明专利]基于反射面天线焦面场采样相控阵馈源的最优化设计方法在审
| 申请号： | 202210069846.5 | 申请日： | 2022-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN114372380A | 公开（公告）日： | 2022-04-19 |
| 发明（设计）人： | 刘胜文;伍洋;田佳怿;杜彪;王超 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第五十四研究所 |
| 主分类号： | G06F30/20 | 分类号： | G06F30/20;G06F111/10 |
| 代理公司： | 河北东尚律师事务所 13124 | 代理人： | 王文庆 |
| 地址： | 050081 河北省石家庄市*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于反射面天线焦面场采样相控阵馈源的最优化设计方法，它涉及通信、测控以及射电天文等领域中的高性能多波束天线技术，旨在提供一种高效率和低通道数的高性价比的相控阵馈源设计方法。本发明方法通过分析不同焦径比和不同扫描角时反射面天线焦平面场的特性，研究焦面场最优采样时相控阵馈源的参数选取原则，总结了天线口径效率与PAF设计参数之间的关系，给出了相控阵馈源最优单元间距与焦径比的关系曲线，导出了PAF单元数量的计算公式，并给出了一个PAF的设计实例和性能分析，验证了设计方法的有效性。该方法适合用于射电天文、卫星通信以及深空探测等领域馈源的设计。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 反射 天线 焦面场 采样 相控阵 馈源 优化 设计 方法 | ||
【主权项】：
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