[发明专利]简单剖面结构保偏母材及其高效制备方法在审

专利信息
申请号: 202210053205.0 申请日: 2022-01-18
公开(公告)号: CN114349328A 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: 李宝东;张飞;劳雪刚;陶泉;和联科;翟国华;凌明;胡家华 申请(专利权)人: 江苏亨通光导新材料有限公司;江苏亨通光电股份有限公司;江苏亨通光纤科技有限公司
主分类号: C03B37/014 分类号: C03B37/014
代理公司: 苏州国诚专利代理有限公司 32293 代理人: 王会
地址: 215200 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了简单剖面结构保偏母材及其高效制备方法,该保偏母材由内至外依次包括VAD芯层、VAD外侧包层和OVD包层,VAD芯层中掺锗,其相对折射率n1为0.5%~0.9%,所述VAD外侧包层中掺氟,其相对折射率n2为‑0.05%~‑0.1%。本发明综合VAD+OVD工艺的优点,配合烧结掺氟工艺,在动态保温炉或动态保温箱中进行充分保温处理,以降低延伸过程芯层应力集中炸裂风险,无需对现有设备进行改造,在产品质量和产量方面,有效提升保偏母材的产出效率,可一次性制备大量光学参数一致的保偏母棒,批次稳定性高,同时降低对设备稳定性要求,使保偏预制棒母材的价格降低30%以上,提升产品的价格竞争力。
搜索关键词: 简单 剖面 结构 保偏母材 及其 高效 制备 方法
【主权项】:
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