[发明专利]坩埚、晶体及光学元件在审
| 申请号： | 202210048249.4 | 申请日： | 2022-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN114808113A | 公开（公告）日： | 2022-07-29 |
| 发明（设计）人： | 川崎克己 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | C30B15/08 | 分类号： | C30B15/08;C30B15/10 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 杨琦;丁哲音 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种可以获得晶体内的添加元素的偏差小的晶体的坩埚、使用该坩埚而获得的晶体以及使用该晶体的光学元件。坩埚具有蓄积成为结晶的原料的熔液的熔液贮存部(24)和控制结晶的形状的喷嘴部(34)。喷嘴部(34)具有使熔液从熔液贮存部(24)流出到喷嘴部(34)的端面(35)的喷嘴孔(36)。喷嘴孔(36)的内周面的表面粗糙度为10μm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 坩埚 晶体 光学 元件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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