[发明专利]一种基于梯度曝光的空气桥制备方法在审
| 申请号： | 202210017002.6 | 申请日： | 2022-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN114200789A | 公开（公告）日： | 2022-03-18 |
| 发明（设计）人： | 赵杰;孙宇霆;于扬 | 申请（专利权）人： | 南京大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 冯艳芬 |
| 地址： | 210008 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于梯度曝光工艺制备空气桥的方法，包括：(1)在基片衬底上预制底层电路；(2)旋涂光刻胶，形成光刻胶层；(3)使用梯度曝光工艺对光刻胶进行曝光，空气桥桥墩部分的光刻胶完全曝透，桥面顶部曝光功率最弱，桥面整体进行阶梯欠曝光；(4)进行显影和定影，留下由光刻胶形成的阶梯拱形支撑；(5)去除基片桥墩部分金属表面的氧化膜，在整个基片上生长一层金属膜；(6)将芯片进行胶剥离而后即可得到空气桥。本发明操作简单、重复性好、性能稳定、且设计自由度大。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 梯度 曝光 空气 制备 方法 | ||
【主权项】：
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