[发明专利]利用立方体矩阵的光固化3D打印均匀度调整流程方法在审
| 申请号： | 202210016264.0 | 申请日： | 2022-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN114559653A | 公开（公告）日： | 2022-05-31 |
| 发明（设计）人： | 沈杰;潘俊深;徐文耀 | 申请（专利权）人： | 宁波智造数字科技有限公司 |
| 主分类号： | B29C64/135 | 分类号： | B29C64/135;B29C64/282;B29C64/386;B29C64/393;B33Y10/00;B33Y30/00;B33Y50/00;B33Y50/02;G06T5/00;G06F16/58 |
| 代理公司： | 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 | 代理人： | 林天哲 |
| 地址： | 315100 浙江省宁波*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种利用立方体矩阵的光固化3D打印均匀度调整流程方法，均匀度检测即为对光机投影区域内的光能量密度进行检测，所述光能量密度的分布很难通过仪器捕捉并进行处理，因此转变思路，通过对光机投影区域中密度分布不均匀的光能量，打印出由大量立方体组成的矩阵，通过对矩阵中每两个立方体之间间隔的尺寸差异进行调整后，通过图像处理软件的处理得到的灰度图，将灰度补偿图实际打印的模型图进行比对；从而达到对光能量的密度分布进行均匀度调整，且由大量立方体组成的矩阵保证了得到的灰度图具有大量的采样点，进而保证能够高效并准确的将光能分布计算出来。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 立方体 矩阵 光固化 打印 均匀 调整 流程 方法 | ||
【主权项】：
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