[发明专利]用于确定光学系统中光学元件的加热状态的方法和装置在审
| 申请号： | 202180085509.9 | 申请日： | 2021-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN116670590A | 公开（公告）日： | 2023-08-29 |
| 发明（设计）人： | J·舒勒;M·洛伦兹;E·施耐德;V·米捷夫;R·马克 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于确定光学系统中、更具体地说是微光刻投射曝光系统中的光学元件的加热状态的方法和装置，其中，在光学系统的操作期间，电磁辐射撞击光学元件(400)的入射表面(401)，其中，通过使用校准参数，基于通过位于距入射表面(401)一定距离处的至少一个温度传感器(420)执行的温度测量来估计入射表面处的平均温度，并且其中，根据光学系统中设定的照明设置来不同地选择所述校准参数。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 确定 光学系统 光学 元件 加热 状态 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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