[发明专利]偏振膜的制造方法和偏振膜在审

专利信息
申请号: 202180079334.0 申请日: 2021-11-22
公开(公告)号: CN116490335A 公开(公告)日: 2023-07-25
发明(设计)人: 大桥亘;中井慎二 申请(专利权)人: 株式会社可乐丽
主分类号: B29C55/06 分类号: B29C55/06
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 陈巍;林毅斌
地址: 日本冈山县*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 偏振膜的制造方法,其包括:利用二色性染料对PVA膜进行染色的染色工序;在包含硼酸的水溶液中进行单轴拉伸的拉伸工序;以及干燥工序,前述拉伸工序的水溶液的硼酸浓度为1质量%~3质量%,总拉伸倍率为5.5倍~7.4倍,式(1)所示的总颈缩率(A)为57.5%~61.0%,前述拉伸工序中的式(2)所示的颈缩率(B)为31.0%~38.0%,前述干燥工序中的式(3)所示的颈缩率(C)为9.8%~16.5%。(A)=((X1‑X2)/X1)×100 (1)(B)={(Y1‑Y2)/Y1}×100 (2)(C)={(Z1‑X2)/Z1}×100 (3)X1表示染色工序前的幅宽(m);X2表示干燥工序后的幅宽(m);Y1表示拉伸工序前的幅宽(m);Y2表示拉伸工序后的幅宽(m);Z1表示干燥工序前的幅宽(m)。
搜索关键词: 偏振 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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