[发明专利]流体处理系统、方法以及光刻设备在审
| 申请号： | 202180061113.0 | 申请日： | 2021-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN116096506A | 公开（公告）日： | 2023-05-09 |
| 发明（设计）人： | C·M·鲁普斯;C·W·J·贝伦德森;E·H·E·C·尤姆麦伦;D·A·维斯梅耶 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | B06B1/00 | 分类号： | B06B1/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光刻设备，具有衬底保持件，被配置成保持衬底，以及投影系统，被配置成将辐射束投影到由衬底保持件保持的衬底上。也具有流体处理系统，被配置成将浸没液体约束于所述投影系统的一部分与所述衬底的所述表面之间的空间中，由此所述辐射束能够通过传递穿过所述浸没液体而照射所述衬底的所述表面。设置有激励装置以在所述衬底中产生朝向所述浸没液体传播的表面声波。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 处理 系统 方法 以及 光刻 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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