[发明专利]使用降阶模型确定激光雕刻表面在审

专利信息
申请号: 202180048892.0 申请日: 2021-05-12
公开(公告)号: CN115835932A 公开(公告)日: 2023-03-21
发明(设计)人: 弗朗切斯科·伊奥里奥;伊恩·罗斯·阿米林;塔索·阿纳斯塔西奥斯·卡尔卡尼斯;陶文翰;马西米利亚诺·莫鲁齐;亚伦·迈克尔·西曼斯基 申请(专利权)人: 斯丹迪斯国际公司
主分类号: B23K26/0622 分类号: B23K26/0622
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 杨佳婧
地址: 美国新罕*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种用于生成激光雕刻表面的模型的计算机实施的方法,所述方法包括:将与激光雕刻工艺相关联的第一参数集的第一值集变换为与激光脉冲模型相关联的第二参数集的第二值集;基于所述第二值集修改所述激光脉冲模型以产生经修改的激光脉冲模型;以及执行所述经修改的激光脉冲模型以将多个激光脉冲导向计算机模拟表面,其中所述多个激光脉冲修改所述计算机模拟表面。
搜索关键词: 使用 模型 确定 激光雕刻 表面
【主权项】:
暂无信息
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