[发明专利]使用降阶模型确定激光雕刻表面

权利要求书

1.一种用于生成激光雕刻表面的模型的计算机实施的方法，所述方法包括：

将与激光雕刻工艺相关联的第一参数集的第一值集变换为与激光脉冲模型相关联的第二参数集的第二值集；

基于所述第二值集修改所述激光脉冲模型以产生经修改的激光脉冲模型；以及

执行所述经修改的激光脉冲模型以将多个激光脉冲导向计算机模拟表面，其中所述多个激光脉冲修改所述计算机模拟表面。

2.如权利要求1所述的计算机实施的方法，其中与所述激光雕刻工艺相关联的所述第一参数集包括激光源参数、激光移动参数或与所述计算机模拟表面相关联的参数中的至少一者。

3.如权利要求2所述的计算机实施的方法，其中所述激光源参数包括与所述激光雕刻工艺中采用的激光源相关联的功率水平、与所述激光源相关联的脉冲频率或与所述激光源相关联的激光光斑尺寸。

4.如权利要求2所述的计算机实施的方法，其中所述激光移动参数包括在所述激光雕刻工艺期间激光光斑在所述计算机模拟表面上的雕刻速度、与在所述激光雕刻工艺中使用的激光源相关联的入射角度或与所述激光相关联的轨迹。

5.如权利要求2所述的计算机实施的方法，其中与所述计算机模拟表面相关联的所述参数包括表面材料特性或表面几何形状。

6.如权利要求1所述的计算机实施的方法，其还包括基于所述第一值集生成所述计算机模拟表面的虚拟表示。

7.如权利要求6所述的计算机实施的方法，其还包括对于包括在所述多个激光脉冲中的每个激光脉冲，基于所述第一值集确定所述表面的所述虚拟表示上的相应位置。

8.如权利要求7所述的计算机实施的方法，其中对于包括在所述多个激光脉冲中的激光脉冲，确定所述计算机模拟表面的所述虚拟表示上的所述相应位置包括基于包括在所述第一值集中的对应于与所述激光雕刻工艺中采用的激光源相关联的激光移动参数的至少一个值来确定在所述激光雕刻工艺期间激光光斑在所述计算机模拟表面上的轨迹。

9.如权利要求1所述的计算机实施的方法，其中针对所述多个激光脉冲执行所述激光脉冲模型包括对于包括在所述多个脉冲中的每个激光脉冲，确定在所述计算机模拟表面的虚拟表示上的相应位置处所述计算机模拟表面的所述虚拟表示的修改。

10.如权利要求9所述的计算机实施的方法，其中确定在所述相应位置处对所述计算机模拟表面的所述虚拟表示的所述修改包括基于所述第二值集修改所述相应位置处的所述计算机模拟表面的所述虚拟表示的表面图。

11.一种存储指令的非暂时性计算机可读介质，所述指令在被处理器执行时致使所述处理器执行以下步骤：

将与激光雕刻工艺相关联的第一参数集的第一值集变换为与激光脉冲模型相关联的第二参数集的第二值集；

基于所述第二值集修改所述激光脉冲模型以产生经修改的激光脉冲模型；以及

执行所述经修改的激光脉冲模型以将多个激光脉冲导向计算机模拟表面，其中所述多个激光脉冲修改所述计算机模拟表面。

12.如权利要求11所述的非暂时性计算机可读介质，其中针对所述多个激光脉冲执行所述激光脉冲模型包括对于包括在所述多个脉冲中的每个激光脉冲，确定在所述计算机模拟表面的虚拟表示上的相应位置处对所述计算机模拟表面的所述虚拟表示的修改。

13.如权利要求12所述的非暂时性计算机可读介质，其中确定在所述相应位置处对所述计算机模拟表面的所述虚拟表示的所述修改包括基于所述第二值集修改所述相应位置处的所述计算机模拟表面的所述虚拟表示的表面图。