[发明专利]用于金属氧代光刻胶的气相热蚀刻液在审
| 申请号： | 202180046725.2 | 申请日： | 2021-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN115777086A | 公开（公告）日： | 2023-03-10 |
| 发明（设计）人： | 拉克马尔·C·卡拉塔拉格;马克·约瑟夫·萨利;巴斯卡尔·乔蒂·布雅;马杜尔·萨尚;瑞加娜·弗雷德 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G03F7/36 | 分类号： | G03F7/36 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本文披露的实施方式包括显影金属氧代光刻胶的方法。在一实施方式中，所述方法包括将具有金属氧代光刻胶的基板提供到真空腔室中，其中所述金属氧代光刻胶包括多个暴露区域和多个未暴露区域。在一实施方式中，所述未暴露区域包括比所述暴露区域更高的碳浓度。所述方法可进一步包括将卤化剂汽化至所述真空腔室中，其中所述卤化剂与所述未暴露区域抑或所述暴露区域反应，以产生挥发性副产物。在一实施方式中，所述方法可进一步包括净化所述真空腔室。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 金属 光刻 气相热 蚀刻 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料公司，未经应用材料公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202180046725.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：抗FCRN抗体制剂
- 下一篇：电化学器件用电极及非水电解质二次电池
