[发明专利]用于施加涂层的方法和装置、以及经涂覆的物体在审
| 申请号： | 202180043064.8 | 申请日： | 2021-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN115867687A | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 韦尔纳·克尔克;斯特凡·博尔茨 | 申请（专利权）人： | 塞梅孔公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 蔡胜有;孙雅雯 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于向物品(60)、(62)施加层(64)的方法和装置(10)。本发明还涉及经涂覆的物品(60)。将物品(60)、(62)设置在真空室(12)中，并供应工艺气体。通过经由施加具有阴极脉冲的阴极电压VP给阴极(30)供电并通过使靶(32)原子化，在真空室(12)中产生等离子体。向物品(60)、(62)施加偏压VB使得等离子体的电荷载流子朝向物品(60)、(62)加速并附着于物品的表面。为了以受控的方式实现涂层(64)的有利特性，使偏压VB的时间曲线在涂覆持续时间D期间变化。在物品(60)、(62)的涂层(64)中，层(64)的材料包含稀有气体，所述稀有气体在层(64)中的浓度在层厚度上变化。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 施加 涂层 方法 装置 以及 经涂覆 物体 | ||
【主权项】：
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