[发明专利]用于光刻设备中的衬底保持器和制造衬底保持器的方法在审
| 申请号： | 202180041129.5 | 申请日： | 2021-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN115698864A | 公开（公告）日： | 2023-02-03 |
| 发明（设计）人： | A·F·J·德格鲁特;M·A·阿克巴斯;A·齐弗契桑迪奇;J·J·邓;M·涅可柳多娃;R·迈尔;S·古普塔;R·C·斯坦尼肯;J·M·W·范登温凯尔;C·M·奥利索维奇;M·佩里 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/687 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文中描述一种生产用于在光刻设备中使用的衬底保持器的方法，所述衬底保持器包括从所述衬底保持器突出的多个突节，并且每个突节具有被配置成与衬底接合的远端表面。所述方法包括经由等离子体增强式化学气相淀积，将耐磨材料的涂层施加于所述多个突节中的一个或更多个突节的远端表面处。所述涂层的所述施加包括在100W至1000W的范围内调整RF电极的射频(RF)功率以产生等离子体；和在腔室中将所述一个或更多个多个突节暴露于在20sccm至300sccm之间的气体流率的前体气体，所述前体气体是己烷。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 设备 中的 衬底 保持 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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