[实用新型]等离子处理装置有效
| 申请号： | 202123130083.0 | 申请日： | 2021-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN216389257U | 公开（公告）日： | 2022-04-26 |
| 发明（设计）人： | 张赛谦 | 申请（专利权）人： | 拓荆科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人： | 黄海霞 |
| 地址： | 110171 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种等离子处理装置，包含：一支撑盘，具有用于支撑基板的一第一承载面及形成于所述第一承载面外围的一第二承载面；及一调节环，配置成以可拆卸的方式坐落于所述支撑盘的第二承载面上，使所述调节环围绕所述第一承载面，且所述调节环具有相互连接的一第一层、一第二层和一第三层，其中所述第二层位于所述第一层与所述第二层之间。所述调节环的设置用于调节等离子曲线。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 装置 | ||
【主权项】：
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