[实用新型]一种静电吸盘有效
| 申请号： | 202123121252.4 | 申请日： | 2021-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN216871933U | 公开（公告）日： | 2022-07-01 |
| 发明（设计）人： | 庞金元;余涛 | 申请（专利权）人： | 璞芯半导体科技（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683 |
| 代理公司： | 苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙) 32246 | 代理人： | 朱斌兵 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市中国（江苏）自由贸易*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种静电吸盘，包括吸盘本体，所述吸盘本体的表面具有用于分布电荷的分布区域；所述电源设备与所述吸盘本体相连，用于在所述吸盘本体的分布区域内形成正电荷和负电荷；其中，所述正电荷和所述负电荷之间的极性相互抵消；所述接地层设于所述吸盘本体上，用于将所述分布区域包围，本实用新型的静电吸盘，整体结构简单，其在吸盘本体的表面形成均匀分布的正负电荷，正负电荷之间的极性相互抵消，从而在释放电压时不会残留大量的电荷，避免放电现象产生，不会对晶元造成损坏，同时分布区域内的正负电荷被接地层包围，这样即使有漏电现象产生，也能通过接地层传递出去，进一步确保晶元不会造成损坏，保证了晶元的安全性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 静电 吸盘 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
