[实用新型]一种应用于氧化钒物理沉积的载片台有效
| 申请号： | 202122810707.7 | 申请日： | 2021-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN216237261U | 公开（公告）日： | 2022-04-08 |
| 发明（设计）人： | 王世宽;宋永辉;史鹏 | 申请（专利权）人： | 无锡尚积半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/08 |
| 代理公司： | 江苏智天知识产权代理有限公司 32550 | 代理人： | 陈文艳 |
| 地址： | 214000 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种应用于氧化钒物理沉积的载片台，应用在物理气相沉积领域，其技术方案要点是：包括真空筒和设置在真空筒内的载片组件；载片组件包括载片盘，载片盘的下方转动叠设有公转盘，载片盘的中心位置设置有转动轴，转动轴穿出公转盘后设置有自转齿轮；公转盘远离转动轴的一侧固定设置于传动杆，传动杆上设置有传动齿轮，传动齿轮与自转齿轮啮合传动连接，具有的技术效果是：通过将载片盘上的转动轴和驱动其转动的传动杆错位设置，并且传动杆与叠设在载片盘下方的公转盘固定连接，可以实现传动杆驱动载片盘自转的同时通过公转盘带动载片盘绕传动杆公转，从而实现氧化钒可以均匀的生长在衬底上。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用于 氧化 物理 沉积 载片台 | ||
【主权项】：
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