[实用新型]引弧装置和离子源模组及真空镀膜机有效
申请号: | 202122785698.0 | 申请日: | 2021-11-13 |
公开(公告)号: | CN216237247U | 公开(公告)日: | 2022-04-08 |
发明(设计)人: | 林海天;李立升;郑礼伟;陈松;杨恺 | 申请(专利权)人: | 东莞市华升真空镀膜科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32 |
代理公司: | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 张捷美 |
地址: | 523835 广东省东莞市大岭*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种引弧装置和离子源模组及真空镀膜机。该引弧装置包括安装座、活动杆、引弧针与复位组件。活动杆与安装座活动连接,活动杆的外壁套设有波纹管,波纹管的一端密封连接于安装座,波纹管的另一端与活动杆密封连接,当活动杆相对安装座移动时,波纹管在活动杆的带动下伸缩运动;引弧针用于与靶材抵接以引燃靶材;复位组件用于驱动活动杆朝远离靶材的方向复位运动。通过复位组件使得引弧针在接触靶材后,避免引弧针惯性运动,以避免引弧针过度撞击靶材而造成的引弧针烧坏的风险。通过波纹管的设置,可以减少真空环境对引弧装置的影响,也可对引弧针具有一定的缓冲效果,减低引弧针烧坏的风险。 | ||
搜索关键词: | 装置 离子源 模组 真空镀膜 | ||
【主权项】:
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