[实用新型]一种平面口罩制造用纳米薄膜有效

专利信息
申请号: 202122230065.3 申请日: 2021-09-15
公开(公告)号: CN216426162U 公开(公告)日: 2022-05-03
发明(设计)人: 王刚 申请(专利权)人: 苏州联鑫新材料技术有限公司
主分类号: B65H16/02 分类号: B65H16/02;B65H75/28;B65H75/18
代理公司: 苏州汇智联科知识产权代理有限公司 32535 代理人: 王美红
地址: 215000 江苏省苏州市吴江区江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种平面口罩制造用纳米薄膜,包括收卷结构,所述收卷结构上收卷有纳米薄膜结构,所述纳米薄膜结构包含纳米薄膜主体以及纳米薄膜封边,所述纳米薄膜封边有两个且对称设置在纳米薄膜主体的边缘处,所述收卷结构内安装有连接结构,所述连接结构上套设有复位弹簧。本实用新型所述的一种平面口罩制造用纳米薄膜,属于纳米薄膜领域,通过设置限位结构、连接结构以及复位弹簧,使其相互配合,可以对纳米薄膜结构进行限位,从而避免剩余的收卷在收卷筒上的纳米薄膜结构松散;通过在纳米薄膜主体的边缘处黏贴纳米薄膜封边,可以对纳米薄膜主体边缘处进行加固,从而降低纳米薄膜主体边缘处受到外力被撕裂的几率。
搜索关键词: 一种 平面 口罩 制造 纳米 薄膜
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