[实用新型]一种平面口罩制造用纳米薄膜有效

专利信息
申请号: 202122230065.3 申请日: 2021-09-15
公开(公告)号: CN216426162U 公开(公告)日: 2022-05-03
发明(设计)人: 王刚 申请(专利权)人: 苏州联鑫新材料技术有限公司
主分类号: B65H16/02 分类号: B65H16/02;B65H75/28;B65H75/18
代理公司: 苏州汇智联科知识产权代理有限公司 32535 代理人: 王美红
地址: 215000 江苏省苏州市吴江区江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 平面 口罩 制造 纳米 薄膜
【权利要求书】:

1.一种平面口罩制造用纳米薄膜,包括收卷结构(1),所述收卷结构(1)上收卷有纳米薄膜结构(2),其特征在于:所述纳米薄膜结构(2)包含纳米薄膜主体(8)以及纳米薄膜封边(9),所述纳米薄膜封边(9)有两个且对称设置在纳米薄膜主体(8)的边缘处,所述收卷结构(1)内安装有连接结构(3),所述连接结构(3)上套设有复位弹簧(4),所述连接结构(3)的外端设置有限位结构(5)。

2.根据权利要求1所述的一种平面口罩制造用纳米薄膜,其特征在于:所述收卷结构(1)的为筒状结构,所述收卷结构(1)内开设有防脱腔体(6),所述防脱腔体(6)为环形结构,所述收卷结构(1)的一端开设有连通穿槽(7),所述连通穿槽(7)将收卷结构(1)的一端与防脱腔体(6)贯穿。

3.根据权利要求2所述的一种平面口罩制造用纳米薄膜,其特征在于:所述连接结构(3)为筒状结构,所述连接结构(3)的内端设置有防脱结构(10),所述防脱结构(10)为环状结构,所述防脱结构(10)在位于收卷结构(1)内开设的防脱腔体(6)内,所述连接结构(3)在位于收卷结构(1)上开设的防脱腔体(6)和连通穿槽(7)内,所述连接结构(3)和防脱结构(10)在防脱腔体(6)和连通穿槽(7)内可进行滑动。

4.根据权利要求2所述的一种平面口罩制造用纳米薄膜,其特征在于:所述复位弹簧(4)安装在收卷结构(1)内开设的防脱腔体(6)内,所述复位弹簧(4)在位于防脱结构(10)的外侧。

5.根据权利要求1所述的一种平面口罩制造用纳米薄膜,其特征在于:所述限位结构(5)的内端开设有纳米薄膜容纳槽(11),所述限位结构(5)通过纳米薄膜容纳槽(11)的内壁与连接结构(3)相连,所述限位结构(5)和连接结构(3)通过黏胶固定安装在一起。

6.根据权利要求1所述的一种平面口罩制造用纳米薄膜,其特征在于:所述纳米薄膜结构(2)上的两个纳米薄膜封边(9)均通过黏胶固定黏贴在纳米薄膜主体(8)的边缘处,所述纳米薄膜结构(2)在位于纳米薄膜容纳槽(11)内。

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