[实用新型]焦点探测装置、检测装置及光刻机有效
| 申请号： | 202121482197.9 | 申请日： | 2021-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN214896205U | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 李道萍;彭俊 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 郑星 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种焦点探测装置、检测装置及光刻机。其中，在第一光偏转器的作用下，光照偏离光轴且呈一定的倾斜角传播。并且第一光偏转器可自转调节，增大测量范围，使得待测物表面不同位置处都可以检测到。同时，因能扫描待测物表面的多个位置，故可以采用缩小光斑直径的方式提高测量灵敏度。此外，在第二光偏转器的作用下，光照会恢复至与光轴重合的状态，以保证对第一探测器及第二探测器的探测没有影响。因此，本实用新型不仅扩大检测范围，提高检测的精度及灵敏度，还能测量出待测物表面多个位置处与物镜之间的垂向距离，进而测出待测物的倾斜角，更加精准地定位待测物，利于在检测关键尺寸及套刻误差时调整待测物的位置，提高检测精度。 | ||
| 搜索关键词： | 焦点 探测 装置 检测 光刻 | ||
【主权项】：
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