[实用新型]一种基于输送带的陶瓷双向施釉装置有效
| 申请号： | 202121172930.7 | 申请日： | 2021-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN215319444U | 公开（公告）日： | 2021-12-28 |
| 发明（设计）人： | 闫文廷;孙卫才;张桂强;侍慎广;黄建华 | 申请（专利权）人： | 朔州恒锐达建陶有限公司 |
| 主分类号： | B28B11/04 | 分类号： | B28B11/04;B28B17/00 |
| 代理公司： | 太原申立德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 14115 | 代理人： | 郭海燕 |
| 地址： | 036000 山*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种基于输送带的陶瓷双向施釉装置，包括工作平台和输送带机构，所述工作平台上设置有输送带机构，其特征在于，还包括施釉室、喷釉室、斗形回收室，所述工作平台上设置有施釉室和喷釉室，所述工作平台下设置有斗形回收室，所述斗形回收室底部设置有釉料出管，所述施釉室内设置有施釉机构、溜釉板槽、刮板机构，所述施釉机构连接在施釉室内的釉料总管上，所述喷釉室顶壁外侧上设置有轨道，在轨道内设置釉行车，所述喷釉室内设置有喷釉机构，所述喷釉机构设置在行车的底端，所述施釉机构、喷釉机构分别通过釉料泵和电阀门连接不同的油料桶，所述输送带机构、刮板机构、釉料泵、电阀门、分别连接PLC控制器和电源。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 输送带 陶瓷 双向 装置 | ||
【主权项】：
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