[实用新型]一种高纯碲真空蒸馏装置有效

专利信息
申请号: 202120863313.5 申请日: 2021-04-25
公开(公告)号: CN215026130U 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 许顺磊;丁刚强;游立;常意川;刘倩倩;董文龙 申请(专利权)人: 中船重工黄冈贵金属有限公司
主分类号: B01D3/42 分类号: B01D3/42;C01B19/02
代理公司: 武汉凌达知识产权事务所(特殊普通合伙) 42221 代理人: 刘念涛
地址: 438000 *** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型公开了一种高纯碲真空蒸馏装置,包括作为加热熔化区的石墨坩埚以及设置在石墨坩埚顶部开口处的多个石墨塔盘,石墨塔盘构成缓冲区,所述的石墨坩埚上罩有石英管,所述的石英管为锥形管,石英管上方设置有石英冷凝罩,石墨坩埚外设置有加热用电阻丝,石英冷凝罩外部设有夹层可通冷凝水,石英冷凝罩顶部开孔通过管道连接真空泵,所述的石墨塔盘、石英管和石英冷凝罩外设置有铁笼,铁笼顶部设有挂钩;本实用新型在蒸馏过程中采用分段式处理,且每段可自由拆卸,有利于原料投料、产品区出料操作独立的立性,也避免了物料交叉污染问题。相比传统碲真空蒸馏装置该装置其有利于提高产品的生产效率及保证产品质量稳定性。
搜索关键词: 一种 高纯 真空 蒸馏 装置
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