[实用新型]一种磁控溅射双面镀膜生产线有效
| 申请号： | 202120565768.9 | 申请日： | 2021-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN214991824U | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 冷长志;李启炎 | 申请（专利权）人： | 浙江云度新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56;H01F41/02 |
| 代理公司： | 杭州永绎专利代理事务所(普通合伙) 33317 | 代理人： | 胡英超 |
| 地址： | 315100 浙江省宁波市鄞州区投*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种磁控溅射双面镀膜生产线，包括磁控溅射设备；其特征是还包括安装在磁控溅射设备两侧的供料装置和往复装置；所述供料装置包含自动翻转机构以及处于磁控溅射设备两侧的输送机构。该实用新型通过供料装置以及往复装置的设置，通过输送机构对磁材进行自动输入输出，通过自动翻转机构对磁材进行自动翻转，通过升降机构对磁材固定板以及磁材上下转运，通过往复输送机构对磁材固定板以及磁材进行往复转运，自动化程度高，效率高，劳动强度低，节省人工劳动力且产品镀膜质量高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 双面 镀膜 生产线 | ||
【主权项】：
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