[实用新型]一种制备Hf02基纳米铁电薄膜的集成制备装置有效
申请号: | 202120350743.7 | 申请日: | 2021-02-08 |
公开(公告)号: | CN214371675U | 公开(公告)日: | 2021-10-08 |
发明(设计)人: | 张昱;史文涛;袁龙飞;杨芬芬 | 申请(专利权)人: | 遵义师范学院 |
主分类号: | F27B9/14 | 分类号: | F27B9/14;F27B9/06;F27B9/30;F27B9/36;F27B9/40 |
代理公司: | 北京栈桥知识产权代理事务所(普通合伙) 11670 | 代理人: | 潘卫锋 |
地址: | 563006 贵*** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: |
本实用新型涉及铁电薄膜制备技术领域,且公开了一种制备Hf02基纳米铁电薄膜的集成制备装置,包括加热箱,所述加热箱的前侧开设有移动口,所述加热箱的两侧均开设有进口,所述移动口的内腔活动套接有移动杆,所述移动杆的前侧固定安装有手柄,所述移动杆后侧的上下侧均固定安装有圆杆,所述圆杆的底部固定安装有支撑板。该制备Hf0 |
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搜索关键词: | 一种 制备 hf02 纳米 薄膜 集成 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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