[实用新型]一种磁控溅射部件有效
| 申请号： | 202120261185.7 | 申请日： | 2021-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN214496462U | 公开（公告）日： | 2021-10-26 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;徐蔓 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 王岩 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种磁控溅射部件，所述磁控溅射部件表面设置有花纹区域；所述花纹区域内花纹的粗糙度Ra为6～10μm；在所述花纹区域表面设置有熔射层；所述熔射层的厚度小于所述花纹的深度。所述磁控溅射部件花纹区域与熔射层结合牢固，且磁控溅射部件的表面积和粗糙度均较高，提高了磁控溅射部件对溅射粒子的吸附能力以及吸附牢固程度，降低了溅射粒子脱落的风险。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 部件 | ||
【主权项】：
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