[实用新型]一种用于晶圆加工的研磨液供应设备有效
| 申请号： | 202120236123.0 | 申请日： | 2021-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN215148077U | 公开（公告）日： | 2021-12-14 |
| 发明（设计）人： | 山本晓;张海涛;刘良宏;许彬;庞博 | 申请（专利权）人： | 无锡吴越半导体有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34;B24B57/02 |
| 代理公司： | 北京华际知识产权代理有限公司 11676 | 代理人： | 刘秀颖 |
| 地址： | 214000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及晶圆加工相关技术领域，且公开了一种用于晶圆加工的研磨液供应设备，包括箱体，所述箱体的左右两侧分别设置有与其内腔相连通的导入接头和导出接头，箱体的内腔等距设置有三个过滤层，箱体的底部开设有与三个过滤层相对应的引流排渣沉槽，引流排渣沉槽的槽口处螺纹连接有密封塞头，箱体的顶部开设有三个与过滤层位置相对应的安装孔，三个安装孔的内侧均通过螺栓安装有密封直线轴承。该用于晶圆加工的研磨液供应设备，有效的将过滤层滤孔内的杂质反冲洗掉，最后通过引流排渣沉槽排出，区别于传统的研磨液供应过滤设备，便于相关操作人员对过滤设备进行清理维护，减少相关操作人员的劳动强度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 加工 研磨 供应 设备 | ||
【主权项】：
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