[发明专利]一种含双阴离子配体过渡金属配合物及其制备方法和应用在审
申请号: | 202111678168.4 | 申请日: | 2021-12-31 |
公开(公告)号: | CN114230604A | 公开(公告)日: | 2022-03-25 |
发明(设计)人: | 张树;吴一弦;刘相伟;高正明;林金汉 | 申请(专利权)人: | 常州汉韦聚合物有限公司 |
主分类号: | C07F9/00 | 分类号: | C07F9/00;B01J31/22;C08F210/16;C08F210/14;C08F4/685 |
代理公司: | 北京思创毕升专利事务所 11218 | 代理人: | 孙向民;廉莉莉 |
地址: | 213017 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: |
本发明属于过渡金属配合物的制备领域,涉及一种含双阴离子配体过渡金属配合物及其制备方法和应用。L |
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搜索关键词: | 一种 阴离子 过渡 金属 配合 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
暂无信息
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