[发明专利]光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质在审
| 申请号： | 202111674610.6 | 申请日： | 2021-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN116413990A | 公开（公告）日： | 2023-07-11 |
| 发明（设计）人： | 严中稳;张戈 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36;G03F1/72 |
| 代理公司： | 上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327 | 代理人： | 郭学秀 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，修正方法包括：提供修正后图形；检测修正后图形是否具有缺陷；在修正后图形具有缺陷的情况下，对修正后图形进行动态的修复处理，动态的循环迭代的修复处理中的调整量根据缺陷动态调整，修正后图形具有一种类型的缺陷时，将缺陷作为主缺陷，修正后图形具有多种类型缺陷时，选择其中一种类型的缺陷作为主缺陷，修复处理中出现的其余类型的缺陷均作为次缺陷，修复处理包括：根据缺陷的类型调整修正后图形；检测调整后的修正后图形是否具有缺陷，当调整后的所述修正后图形具有缺陷时，重复进行所述修复处理。本发明提高了修复处理的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 邻近 修正 方法 系统 掩膜版 设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
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- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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