[发明专利]一种三维离子系综微米级形态调控方法在审

专利信息
申请号: 202111669594.1 申请日: 2021-12-31
公开(公告)号: CN114496714A 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: 杜丽军;蒙艳松;贺玉玲;韩虹;张立新;谢军 申请(专利权)人: 西安空间无线电技术研究所
主分类号: H01J49/06 分类号: H01J49/06;H01J49/42
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 杨春颖
地址: 710100 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种三维离子系综微米级形态调控方法,通过构建由四组平行极杆组成的四极杆线形离子阱结构,四组极杆中,在一对对角极杆上施加正向射频势,在另外一对对角极杆上施加反向射频势实现离子的径向约束;四组极杆中,在每一组极杆的两端共八个端上,叠加直流电势实现离子的轴向约束。依据三维离子系综的位置、形状及功能等调控要求,通过在射频离子阱极杆上直接施加逻辑复合静电势,实现三维离子系综的多自由度高效精细调控。该方法在不改变离子阱结构的前提下,通过开发新型真空腔外离子调控电磁场系统,实现了三维离子系综多自由度平动、转动及形状的精细调控。
搜索关键词: 一种 三维 离子 微米 形态 调控 方法
【主权项】:
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