[发明专利]一种可同时实现明场与暗场成像的共聚焦显微装置在审
| 申请号： | 202111659865.5 | 申请日： | 2021-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN114396888A | 公开（公告）日： | 2022-04-26 |
| 发明（设计）人： | 吴寒旭;薛潇博;李昂;王海峰;王宏博 | 申请（专利权）人： | 北京无线电计量测试研究所 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24;G01N21/01;G01N21/47;G01N21/55;G02B21/00 |
| 代理公司： | 中国航天科工集团公司专利中心 11024 | 代理人： | 张国虹 |
| 地址： | 100854 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明的一种可同时实现明场与暗场成像的共聚焦显微装置，包括：连续激光器、第一光电探测器、三维平移台、第二光电探测器；连续激光器的激光发射端一侧依次装设有扩束系统、分光平片、双腔三棱镜、挡光板；第一光电探测器的上端依次装设有第一共焦针孔、第一收集透镜。本发明装置通过双腔三棱镜，利用反射光与散射光在空间方向上的差异性，有效将样品的反射光与散射光在空间上进行分离，并分别进行明场成像与暗场成像，而且很好地保证了成像的原位性，且可以对待测样品同时进行明场与暗场高分辨显微成像，在传统共聚焦显微成像系统的基础上，利用常规的光电器件即可实现系统改进，方便快捷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 同时 实现 暗场 成像 聚焦 显微 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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