[发明专利]一种提高光刻胶模型精度的方法在审
| 申请号： | 202111644843.1 | 申请日： | 2021-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN114330127A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 梁洪齐 | 申请（专利权）人： | 深圳晶源信息技术有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/27 | 分类号： | G06F30/27;G06N3/04;G06N3/08 |
| 代理公司： | 深圳市智享知识产权代理有限公司 44361 | 代理人： | 罗芬梅 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市福田区福保*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及建模领域，特别涉及一种提高光刻胶模型精度的方法。本发明的提高光刻胶模型精度的方法先提供一种卷积核，卷积核包括若干点，卷积核中的每一点均可变化且形成随机变量组；基于卷积核建立光刻胶模型；随机变量组每变化一次定义为一次优化，基于每次随机变量组变化得到所对应的模型的方均根，直到达到预设优化目标并记录该对应的随机变量组的数值。通过使用每一点均为变量的卷积核的设计，使得优化时可以在多个方向进行尝试，使得优化后的光刻胶模型更接近于实际模型，解决了现有技术光刻胶模型建模精度低下的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 光刻 模型 精度 方法 | ||
【主权项】：
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