[发明专利]一种制备薄膜均匀性高的离子束溅射沉积设备

摘要

本发明公开了一种制备薄膜均匀性高的离子束溅射沉积设备，涉及溅射镀膜技术领域，包括沉积室，还包括工件和防护罩，沉积室的内壁设置有两个固定台，两个固定台的相对侧设置有工作台，工件设置在移动台的表面，移动台与工作台相贴合，防护罩与工作台的相对侧铰接有铰接杆和V型杆，沉积室的内壁设置有靶台组件，沉积室的内壁设置有两个离子组件，离子组件包括离子源。本发明具备了通过挡板对工件的遮挡，达到了离子源预先对靶材进行高效清理的效果以及提高空间利用率的效果，同时离子组件和靶材组件可进行定向的移动和偏转，以提高制膜的工作效率以及制膜的均匀程度的效果。