[发明专利]一种用于纳米压印金属光栅拼接对齐的掩模及金属光栅拼接方法有效
| 申请号： | 202111528666.0 | 申请日： | 2021-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN114200797B | 公开（公告）日： | 2022-11-22 |
| 发明（设计）人： | 简旸;葛海雄 | 申请（专利权）人： | 南京大学 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 霍苗 |
| 地址： | 210008 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于微纳米加工技术领域，提供了一种用于纳米压印金属光栅拼接对齐的掩模及金属光栅拼接方法。本发明提供的掩模，包括基准掩模和对齐掩模；所述基准掩模设置有若干个基准标记；所述基准标记包括正方形基准点和第一游标；所述正方形基准点设置有十字型狭缝；所述对齐掩模上设有至少一个对齐标记；所述对齐标记包括十字型对齐点和第二游标。本发明的对齐掩模中的对齐标记和基准掩模中的基准标记对齐，能减少金属光栅拼接的误差，提高对齐精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 纳米 压印 金属 光栅 拼接 对齐 方法 | ||
【主权项】：
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