[发明专利]将一光敏层曝光之装置及方法在审
| 申请号： | 202111523200.1 | 申请日： | 2016-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN114185250A | 公开（公告）日： | 2022-03-15 |
| 发明（设计）人： | B.塔尔纳;B.波瓦扎伊 | 申请（专利权）人： | EV集团E·索尔纳有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 胡莉莉;刘春元 |
| 地址： | 奥地利圣*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明系关于用于曝光一光敏层之一方法，该光敏层具有一光学系统，在各情况中，至少一光线由至少一光源产生且一曝光图案之像素由至少一微镜装置照明，该至少一微镜装置具有在各情况中具有一镜强度分布的多个微镜，其特征在于为得到曝光图案之一图案强度分布而重迭相邻微镜之镜强度分布发生为曝光图案之各经照明像素之镜强度分布之一总和。此外，本发明系关于使用一光学系统来曝光一光敏层之一装置，该光学系统具有：至少一光源，其用于产生至少一光线，至少一微镜装置，其具有多个微镜，其中光学系统依一方式建构，使得为形成曝光图案之一图案强度分布而重迭相邻微镜之镜强度分布发生为曝光图案之各经照明像素之镜强度分布之一总和。 | ||
| 搜索关键词： | 光敏 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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